某半导体行业集成电路芯片开发厂在晶圆加工制作时候中，运行硅烷对其进行硅外加衍生，空气洗條塔产生高盐浓度含硅废气。废气极具pH下跌大（2-11）、硅占比高的优点，传统型处里的方法易显现硅垢空气能管道堵塞现象。 废气组分及源于 废水处理首要化学物质为： 融掉性硅酸盐 ：SiO₂密度达1000-1500mg/L 浓盐酸/氢被氧化钠 ：洗衣塔酸性洗衣液无残留 小粒硅 ：nm级SiO₂胶体溶液 痕量砷 ：原材杂物融入 解决新工艺步骤 改革创新所采用"有级与+膜过滤装置+汽化晶粒"艺： 一个与 ：用CaO调试pH至4-5，形成硅酸钙析出，硅清掉率60%。 2级采和 ：加Na₂CO₃将pH提升自己至9，进第一步析出已用硅，串联用镁剂除砷。 反渗透膜软件 ：0.02μm工业陶瓷膜活性炭过滤納米级硅颗粒状，通量稳定性高在80LMH。 MVR减压蒸馏器 ：浓缩造成高盐废污水，晶体出Na₂SO₄副物料，水回收率超90%。 结果英文视觉效果 总硅从1500mg/L高于5mg/L以內 砷含量从0.8mg/L高于0.01mg/L 整体无积灰作业不超2年 今年收集硝酸钠钠硫化锌约800吨