建设项目情况 深圳某光电器件厂的生产环节中同時导致高硅焦化生产废水处理工艺（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟焦化生产废水处理工艺（F⁻ 200-300mg/L）。每种焦化生产废水处理工艺相溶易于导致氟硅酸固体，传统的英语化学沉垫法无法不稳不合格。创业项目需要同部除去硅和氟（废气标：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 废水处理方法含量及渠道 大部分材料 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 原因 ：晶圆刻蚀废污水、CMP研磨抛光废污水、机械擦拭水 处里生产技术程序流程 协同工作积累阶段性 ： 多级发应池 ： 独一级加药Ca(OH)₂转化CaF₂和CaSiO₃析出； 然后级加药PAC（配位聚铝）升级斜板沉淀池。 固液破乳阶段中， ： 反渗透膜平台 ：进行0.02μm孔直径膜模块公款私存电解质溶液硅和微细沉定物。 深度.脱氟的时候 ： 活性酶类腐蚀铝粘附塔 ：多余氟铝离子降解删去。 后面效用 留水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远强于的国家规范。 超滤膜操作系统通量安稳在15LMH，检查是否洗涤时间间隔廷长至60天。 活性污泥经压滤后含水分率＜65%，可按大部分固体废弃物处理。