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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

工程背景图片 该光电器件打造工艺区为于苏北东南部,总股权投资超过了200万亿,大部件生孩子129英寸晶圆和先进集体芯片封装类产品。工艺区日释放废蓄水量约5000吨,包含了四种工艺技术污水,操作难易度大。項目让污水操作后以达到《网上工艺水感染物释放规定》(GB 39731-2020)特点释放卫生防护距离,部件造纸废水处理率不大于60%。 工业废水有效成分及渠道 含氟废气:常见发源晶圆蚀刻、洁净道工序,氟正离子盐浓度可高达200-500mg/L,pH值价格波动大 有机会肥料化工废水:光刻、成像、去胶等制作工序形成,COD氧浓度300-800mg/L,所含异丙醇、甲苯等有机会肥料容剂 含铜污废水 :化学工业镍、化学工业物理磨光(CMP)工艺程序生成,铜化合物渗透压50-150mg/L 腐蚀性污水:机清晰、有机废气洗滌等关键点生成,pH值在2-12彼此波动性 打磨生活污水:CMP环节带来,内含nm级二被氧化硅粒子 补救方法具体步骤 用"分类管理采集而来+分质治疗+深层清洁"的组合构成工艺设备: 含氟焦化废水净化处理线 : 多级检查是否积淀:先加药氯化钙上下调整pH至6-7,加个入PAC和PAM水解酸化池积淀 树脂吸附性氧化反应铝树脂吸附:提高认识氟阴阳离子溶度高于5mg/L以下的 工业废水经板框压滤后委托代为专业性治理 有机物废水正确处理方法正确处理线 : 微电解设备设备预清理:铁碳微电解设备设备分解大生物大分子酚类化合物物 UASB厌氧不起作用器不起作用器:HRT=24h,COD避开率>60% MBR膜动物影响器:采用了PVDF中空玻璃窗钎维膜,通量15LMH 含铜焦化废水进行处理线 : 生物放置:添加NaOH调低pH至9-10,演变成Cu(OH)2放置 铝正离子互换:有级树脂胶互换保持铜铝正离子<0.3mg/L 钛电极二手利用:局部污废水 经钛电极二手利用彩石铜 综上外理系统化 : 缓解池:多样化饮用水供水量,设暴气搅伴 混疑水解:添加挽回水解酸化池剂我们要除橡胶胶体部分物 臭氧老化促进氧化还原的氧化的:吸附难吸附有机酸物 反进行渗透操作系统:脱盐率>98%,产水中水回用于的流水线 工业废水操作设计 : 污水溶缩池:膏状浓度值从1%升降至3% 离心法脱水现象:入驻PAM厨卫,泥饼含水分率<75% 冷藏干化:的部分工业废水干化至含水分率30%下列 决定感觉 业务建设加载后,各种完成指标比较稳定合格:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜化合物<0.3mg/L、pH 6-9。工艺废水处理水土质超过GB/T 19923-2005工艺使用水进行规则,工艺废水处理率65%,几乎每年节约用电新鲜的水容量约130万吨。生活污水行成量极大减少40%,有风险性废品防范生产成本消减35%。系统化半智能化以及自动化因素高,线下监测方案数据报告与环境监管部门时实连接网络。

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