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半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法

的项目背景图片 该类目设在长三角经济区型中北部某国家地区级半导体材料财产绿化区,企业通常生产加工84屏幕尺寸和124屏幕尺寸晶圆,每日量符合2万片。伴随生产量发展,固有的废水治疗工艺治疗系统化已无非拥有节能追求,急缺发展升级改造。创业项目总投资的约11000万元,方案治疗意识为300吨/日,于202半年建好投入使用。 废水处理化学物质及由来 该商家晶圆划区繁琐流程生产的废液包括蕴含低于化学物质: 打孔期间中安全使用的考虑液残余的物,一般材质为二腐蚀硅顆粒、漆层活力剂和设计填加剂 晶圆界面清理生产的含氟废水处理,氟铝离子有机废气浓度在80-120mg/L 少量的血本属阴离子如铜、镍等,是因为激光切辅助工具有损坏 有机质溶液残余的,也包括异丙醇、甲苯等 pH值起伏太大太大,一般是在4-10相互之间 进行处理工序流程图 而对化工废水性能特点,装修设计通过"有机化学预治理 +生化模式治理 +深层次治理 "的结构鑫霖环保: 转换池 :稳定土质发电量,设有pH线上监控和全自动加量整体 混疑水解 :加药系统PAC和PAM,去掉悬浮物物和固体的物质 气浮机组 :选择溶气气浮加工制作工艺 进一歩剔除犬细小顆粒和方面巧妙物 生物化整理 :采取MBR膜动物想法器,厌氧颗粒污泥渗透压维护在8000-10000mg/L 淬硬层处理 :亲水性炭吸附剂+反固化制作工艺,狠抓出液达到 厌氧颗粒污泥净化处理 :板框板框压滤机过滤,活性污泥水分含量率低于60%以内 整理体验 整体相对稳定运动后,出水出水地表水几乎实现《光电制造业水环境破坏物水质标准规范标准规范》(GB39731-2020)特别水质标准规范最大限度追求: COD<30mg/L 氟亚铁离子<5mg/L 悬浮按钮物<10mg/L 高价属各类指数公式均最低最大限度 的项目每一年可极大减少生态破坏物排放物量约COD 32吨、氟化物8.5吨,循环水率提升75%上,为公司企业节省成本水电费总支出约115万元/年。

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